多功能离子镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化。膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜，多层复合膜等。经公司技术人员多年专注研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统，使镀膜膜层附着力致密度、从复度一致性好等特点，解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金刚石膜（DLC）。
1. 磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，把阴极表面磁场扩展到接近工件表面，提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。
2. 电弧等离子体蒸发源性能可靠，在优化阴极及磁场结构镀膜时可在 30A 电流下工作，镀膜膜层和基底界面产生原子扩散，又具有离子束辅助沉积的特点。

参数说明： 型号 JTL-800 JTL-1000 JTL-1250
真空室尺寸 Φ800Χ1000mm Φ1000Χ1000mm Φ1250Χ1100mm
镀膜方式及主要配置
六个多弧靶 +一套圆柱靶+一套平面矩形磁控溅射靶 八个多弧靶 +一对孪生（中频）磁控溅射靶+一套平面矩形磁控溅射靶 十二个多弧靶 +二套平面矩形磁控溅射靶+一对孪生（中频）磁控溅射靶
电源
电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源
工艺气体控制
质量流量计 +电磁陶瓷阀
真空室结构
立式侧（单）开门结构，后置抽气系统，双层水冷
真空系统组成
分子泵 +罗茨泵+机械泵（5.0Χ10-5 pa），扩散泵+罗茨泵+机械泵（ 5.0Χ10-4pa）
工件烘烤温度 常温到 500度可调可控(PID控温)，辐射加热
工件运动方式 公自转变频调速， 0-20转/分
测量方式 数显复合真空计：测量范围从大气至 1.0Χ10-5pa）
控制方式 手动 /自动/PC/PLC+HMI/PC四种控制方式可选
备注 以上设备可按客户实际产品及特殊工艺要求设计订做