真空镀膜生产线主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀高质量、多功能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜、LOw—E等膜层。本公司可按用户要求提供设计，提供全套设备，负责工艺，按交“钥匙”工程服务。
设备特点：
1、设备采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以先进的控制系统．
2、生产过程全部自动，连续进行。被镀工件加热温度*高可达350℃，温度分区控制可调，
3． 真空室体材料采用SUS304，真空室内壁进行抛光处理，外壁采用抛光后 喷珠处理。
4、真空室之间采用独立门阀隔开，我们设计的是插板阀，可以有效隔断，稳定工艺气体。目前国内只有我 们公司具有这项技术设计生产插板阀，它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好，更耐用．
5、传动采用磁导向，保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动，运行速度可调节
6、电气控制系统：触膜屏与P L C自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制
7、主要技术参数：
8、极限真空压力：7×10-4Pa
9、平均生产周期：8 0秒／架
10、基片架尺寸：8 5 0×1 5 0 0(mm)(可以根据要求定做)
11、膜层均匀性：±2％
12、膜层稳定性：达到国际标准