磁控、中频、多弧离子镀膜
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详细介绍
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应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。

该系列设备主要是（集）直流磁控溅射, 中频溅射和多弧离子三种技术融合一体，可适应广泛镀膜靶材，无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜, 使膜层附着力、致密度、从复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金刚石膜（DLC）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统，全自动控制。
　
磁控、中频、多弧离子镀膜设备技术参数说明

设备型号 ZCK-1000 ZCK-1150 ZCK-1200 ZCK-1400 ZCK-1600
真空室尺寸 1000×1200 1150×1200 1200×1300 1400×1300 1600×1300
制膜种类 金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等
电源类型 直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源
多弧靶 多弧靶5个或18个，1个或2个柱弧靶
孪生靶 中频孪生柱靶或平面靶（1-4对）
真空室结构 立式前开门结构（双层水套式或水槽式冷却）、后置抽气系统
真空系统 旋片泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
加热系统 常温至350度可调可控（PID控温），不绣钢加热管加热
充气系统 质量流量控制仪（1-4路）
极限真空 6×10－4pa（空载、净室）
抽气时间