经公司技术人员多年专注研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，并开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统，使镀膜膜层附着力致密度、从复度一致性好等特点，解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜（DLC）。

1、 磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，把阴极表面磁场扩展到接近工件表面，提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。

2、 电弧等离子体蒸发源性能可靠，在优化阴极及磁场结构镀膜时可在30A电流下工作，镀膜膜层和基底界面产生原子扩散，又具有离子束辅助沉积的特点。

型号
JTZ-800
JTL-1000
JTL-1250

真空室尺寸
￠800×1000MM
￠1000×1000MM
￠1250×1100MM

镀膜方式及主要配置
六个多弧源+一套圆柱靶+一套平面矩形磁控溅射靶
八个多弧源+一对孪生（中频）磁控溅射靶+一套平面矩形磁控溅射靶
十二个多弧源+一对孪生（中频）磁控溅射靶+两套平面矩形磁控溅射靶

镀膜方式及主要配置
电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源

工艺气体控制
质量流量计+电磁陶瓷阀

真空室结构
立式侧（单）开门结构，后置抽气系统，双层水冷

真空系统组成
分子泵+罗茨泵+机械泵（5.0×10-4PA）

工件烘烤温度
常温到500度可调可控(PID控温),辐射加热

工件运动方式
公自转变频调速,0~20转/分

测量方式
数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA

控制方式
手动/自动/PC/PLC+HMI/PC四种方式可选

备注
以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做