不导电(NCVM)膜镀膜设备
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不导电(NCVM)膜镀膜设备
详细信息 -------------------------------------------------------------------------------- 详细介绍 -------------------------------------------------------------------------------- 在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(锡丝、铟银合金丝)熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜(NCVM)。大功率蒸发系统,可控硅控制,重复性、稳定性高,独有镀透电极设计,配置石英晶振,可控制任何膜层厚度,拥有专利的工件架技术,转速平稳可调,产量大且良品率高。 不导电(NCVM)膜镀膜设备 设备型号 ZHL-1200HB ZHL-1400HB ZHL-1600HB ZHL-1800HB 真空室尺寸 1200×1500 1400×1950 1600×1950 1800×1950 制膜种类 不导电锡、半透明膜、铝 电源类型 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源 真空室结构 立式双开门、立式单开门、 真空系统 滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统) 极限真空 8×10-4pa(空载、净室) 抽气时间 空载大气抽至5×10-2pa小于6分钟。 工件旋转方式 6轴/8轴/9轴/莲花架/公自转/变频无级调速 控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC 备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 本资料仅供参考,部分参数可能有所变动,怒不另行通知。 共0条 相关评论 |