点击图片查看原图不导电（NCVM）膜镀膜设备
设备型号 ZHL-1200HB ZHL-1400HB ZHL-1600HB ZHL-1800HB
真空室尺寸 1200×1500 1400×1950 1600×1950 1800×1950
制膜种类 不导电锡、半透明膜、铝
电源类型 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源
真空室结构 立式双开门、立式单开门、
真空系统 滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
极限真空 8×10－4pa（空载、净室）
抽气时间 空载大气抽至5×10－2pa小于6分钟。
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴/莲花架/公自转/变频无级调速
控制方式 手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
本资料仅供参考，部分参数可能有所变动，怒不另行通知。
不导电（NCVM）膜镀膜设备