磁控、中频、多弧离子镀膜
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详细介绍
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应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等,如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。
该系列设备主要是(集)直流磁控溅射, 中频溅射和多弧离子三种技术融合一体,可适应广泛镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜, 使膜层附着力、致密度、从复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合电气控制系统,全自动控制。
磁控、中频、多弧离子镀膜设备技术参数说明
设备型号 ZCK-1000 ZCK-1150 ZCK-1200 ZCK-1400 ZCK-1600
真空室尺寸 1000×1200 1150×1200 1200×1300 1400×1300 1600×1300
制膜种类 金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等
电源类型 直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源
多弧靶 多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶
孪生靶 中频孪生柱靶或平面靶(1-4对)
真空室结构 立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统
真空系统 旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统)
加热系统 常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热
充气系统 质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间
多弧离子镀膜