点击图片查看原图型号 JTL-1090 JTL-1110 JTL-1312 JTL-1612
真空室尺寸 Φ 1000Χ900mm Φ 1100Χ1000mm Φ 1200Χ1200 mm Φ 1600Χ1200 mm
镀膜方式及主要配置
3个电弧+平面矩形阴极2对 6个电弧+圆柱阴极2对+平面矩形阴极1对 6个电弧+圆柱阴极4对+平面矩形阴极1对 6个电弧+圆柱阴极8对+平面矩形阴极1对
镀膜种类
金属膜，介质膜，化合物膜，反应膜，多功能层次膜
电源
电弧电源，真空磁控电源，中频磁控电源，脉冲偏压电源，离子源电源
真空室结构
立式前（单）开门，后置抽气系统，双层水冷
真空系统组成
分子泵（扩散泵）+罗茨泵+机械泵
极限真空
2.0Χ10-4
抽气时间
大气抽至3Χ10-3Pa≤15min
工件运动方式
公 /自转，变频调速
工件烘烤温度
常温到 350oC可调可控
控制方式
全自动化控制 PC+PLC/PC+HMI
备注
该设备可按客户产品及特殊工艺要求订做
中频磁控镀膜设备