点击图片查看原图1. 型号：HPD-2400；
2. 电源：三相AC380V（±10%）
3. 功率：1000VA；
4. 电极尺寸：500mm×450mm；
5. 设备尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 设备重量：180kg
7. 腔体压力：500~3000Pa
用途：
1. 酶标板、细菌计数培养皿、细胞培养皿、组织培养皿的亲水处理。经过等离子体处理后细菌培养皿表面由疏水变为亲水,并获得支持细胞黏附铺展的能力.并适用于细胞培养。等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证，处理过的样品表面完全被水润湿。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的处理
3. 等离子清洗、刻蚀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。